华为打了套组合拳 左手鸿蒙,右手光刻机(国产*进光刻机)
华为打了套组合拳 左手鸿蒙,右手光刻机(国产*进光刻机)
近日华为先是发布了HarmonyOS 2操作系统，随后又宣布将HarmonyOS的基础能力全部捐献给开放原子开源基金会，一时赚足了眼球。鸿蒙的面世，意味着华为应对安卓禁令“B计划”已经生效，在操作系统方面，华为从此不再受制于人。
现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术？官网显示，目前*进的光刻机是600系列，光刻机中*的生产工艺可以达到90nm。然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造。
提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要。目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机技术进步明显。但是与国外的水平相比，仍有一定差距。
我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到*水平：我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准。
如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作？查询官网可以知道，如今*进的光刻机是600系列，光刻机*的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，*可以达到5纳米的工艺制作。
1、尽管国产光刻机精度只有90nm，非常落后，但还是很有存在的必要！不管是从用户的角度，还是产业的角度，抑或国家的层面，90nm的国产光刻机，都必须存在。国产光刻机制程精度不高，不是取消或者淘汰国产光刻机的理由。
2、国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。
3、是90纳米。查询官网可以知道，如今*进的光刻机是600系列，光刻机*的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，*可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。
4、我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的。但相信在不久的将来，我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机。
5、smee光刻机22纳米。光刻机（lithography）又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
6、纳米制程在制造层面的实现离不开高性能光刻机的运行，而这种精密仪器制造成本高和制造时间长。目前世界*的光刻机是荷兰的ASML，它几乎垄断了高端领域的光刻机市场，市场份额高达80%以上。
